支持膜
TEM Support Film
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PELCO®支持膜包括：方华膜、碳支持膜、碳膜、氧化硅膜。
膜厚1. 方华膜， 30至60nm； 2. 碳膜： 镀碳方华膜，5至10nm； A型碳膜 ，15至25nm； B型碳膜，15至25nm；A型超薄碳膜，3至4nm；超薄多孔碳膜，小于3nm。
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1. 方华膜：纯方华膜，可根据需要喷镀各种材料，或用于支持薄切片。
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产品编号
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描述
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单位
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01700-F
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方华膜， 200 目， 铜
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50个/包
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01706
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方华膜， 0.4 x 2mm狭缝， 铜
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25个/包
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2. 镀碳方华膜： 方华膜镀有一层薄的碳膜。在电子束作用下，碳膜的导热、导电性能有助于方华膜的稳定。该载膜为弹性多用途支持膜。非常适合薄切片应用，可使用更低的放大倍数。
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产品编号
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描述
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单位
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01802-F
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方华膜/碳膜 75 目， 铜，载网孔大小约 292µm
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50个/包
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01800
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方华膜/碳膜 200 目， 铜
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25个/包
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01800-F
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方华膜/碳膜 200 目， 铜
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50个/包
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01801
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方华膜/碳膜 200 目， 铜
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100个/包
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01803
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方华膜/碳膜 200 目 TH， 铜
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25个/包
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01803-F
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方华膜/碳膜 200 目 TH， 铜
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50个/包
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01800N
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方华膜/碳膜 200 目， 镍
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25个/包
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01800N-F
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方华膜/碳膜 200 目， 镍，载网孔大小约 97µm
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50个/包
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01753-F
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方华膜/碳膜 300 目， 铜，载网孔大小约 63µm
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50个/包
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01754-F
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方华膜/碳膜 400 目， 铜，载网孔大小约 42µm
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50个/包
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01806
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方华膜/碳膜， 0.4 x 2mm狭缝， 铜
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25个/包
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TH= 更厚的载网
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3. B型碳膜： 方华膜上镀有更厚的碳膜，为强度最高、应用最灵活的载膜；在高束流强度、高倍等各种电镜操作条件下，依然稳定；可承受剧烈的制样技术；如碳膜为憎水性，样品悬浮液可加在方华膜表面。
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产品编号
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描述
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单位
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01810
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B型碳膜， 200 目， 铜
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25个/包
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01811
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B型碳膜， 200 目， 铜，载网孔大小约 97µm
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100个/包
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01910-F
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B型碳膜， 200 目， 铜， 微坐标
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50个/包
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01813
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B型碳膜， 300 目， 铜
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25个/包
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01813-F
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B型碳膜， 300 目， 铜
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50个/包
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01810G-F
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B型碳膜， 300 目， 金，载网孔大小约 63µm
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50个/包
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01814-F
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B型碳膜， 400 目， 铜，载网孔大小约 42µm
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50个/包
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4. A型碳膜： 载网的另一面有一层可去除的方华膜。当浸在溶剂中时，方华膜被去除，纯碳膜得以保留。这些膜在方华膜无法承受的电镜操作条件下依然稳定。纯碳膜较含方华膜的支持膜更为精细，制样时须更细心。
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产品编号
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描述
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单位
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01820
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A型碳膜， 300 目， 铜
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25个/包
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01821
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A型碳膜， 300 目， 铜
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100个/包
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(b) 超薄 A型碳膜： 碳膜约3nm厚.
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产品编号
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描述
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单位
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01822
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超薄 A型碳膜， 400 目， 铜
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25个/包
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01822-F
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超薄 A型碳膜， 400 目， 铜，载网孔大小约 42µm
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50个/包
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(c) 超薄碳膜于多孔碳支持膜上：无方华膜衬底，孔上的碳膜厚度小于3nm，是大部分载膜中最薄尤其适用于低反差颗粒高分辨显微观察和能量过滤TEM。
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产品编号
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描述
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单位
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01824G
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超薄碳膜于多孔碳支持膜上， 300 目， 金
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25个/包
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01824
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超薄碳膜于多孔碳支持膜上， 400 目， 铜
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25个/包
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5. 一氧化硅膜：高弹性支持膜，可承受剧烈的样品制备过程，低背景反差，电子束下稳定，较碳膜亲水性好。
(a) 镀一氧化硅方华膜：方华膜上镀有一层薄的一氧化硅膜。
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产品编号
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描述
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单位
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01830
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一氧化硅/方华膜， 200 目， 铜，载网孔大小约 97µm
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25个/包
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(b) 一氧化硅A型：载网另一面含可去除的方华膜衬底。用溶液溶去方华膜时，保留下来的为纯一氧化硅膜。这些膜在方华膜无法承受的电镜操作条件下依然稳定。纯一氧化硅膜较含方华膜衬底的支持膜更为精细，制样时须更细心。
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产品编号
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描述
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单位
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01829
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一氧化硅A型， 可去除 方华膜， 300 目， 铜
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25个/包
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01829-F
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一氧化硅A型， 可去除 方华膜， 300 目， 铜，载网孔大小约 63µm
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50个/包
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6. 微栅支持膜 – NetMesh™载网：
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微栅支持膜上的孔径在0.25至10µm之间，非常坚固，可以支撑各种样品。从大的晶体样品到小的病毒颗粒，均可使用微栅支持膜。样品搭载在微栅孔上，如病毒或细菌颗粒一般会粘附在微栅孔的边缘，因此没有基底物质的干扰；一维纳米材料可搭载在微孔两端，纳米颗粒在微孔边缘，是高倍电镜理想的观察位置，从而得到纳米结构的高分辨像，更便于微束分析或获得单颗粒电子衍射像。
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(a) 镀碳微栅支持膜：微栅支持膜，方华膜上镀有一层较厚的碳膜.
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产品编号
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描述
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单位
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01881
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微栅支持膜 方华膜/碳膜， 200 目， 铜
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25个/包
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01881-F
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微栅支持膜 方华膜/碳膜， 200 目， 铜，载网孔大小约 97µm
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50个/包
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01883
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微栅支持膜 方华膜/碳膜， 300 目， 铜
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25个/包
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01883-F
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微栅支持膜 方华膜/碳膜， 300 目， 铜，载网孔大小约 63µm
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50个/包
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(b) A型碳微栅支持膜：载网的另一面有一层可去除的方华膜。当浸在溶剂中时，方华膜被去除，纯碳膜得以保留。这些膜在方华膜无法承受的电镜操作条件下依然稳定。纯碳膜较含方华膜的支持膜更为精细，制样时须更细心。
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产品编号
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描述
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单位
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01890
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，微栅支持膜 A型碳膜， 300 目， 铜
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25个/包
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01890-F
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，微栅支持膜 A型碳膜， 300 目， 铜，载网孔大小约 63µm
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50个/包
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(c) 一氧化硅微栅支持膜：微栅支持膜，在方华膜上镀有一氧化硅。
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产品编号
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描述
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单位
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01887-F
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，微栅支持膜 一氧化硅 on 方华膜， 300 目， 铜，载网孔大小约 63µm
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50个/包
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支持膜选择参照表
B= ； G= 好； -=不适合
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应用场合
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方华膜
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镀碳方华膜
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镀一氧化硅 方华膜
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A型一氧化硅支持膜
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A型碳支持膜
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B型碳支持膜
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微栅膜是否适合
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需纯方华膜的应用
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B
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-
|
-
|
-
|
-
|
-
|
否
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|
细菌悬液
|
-
|
G
|
B
|
B
|
B
|
B
|
是
|
|
细胞片段悬液
|
-
|
B
|
B
|
B
|
B
|
B
|
是
|
|
衍射研究
|
-
|
-
|
G
|
G
|
B
|
B
|
是
|
|
EDS分析
|
-
|
G
|
-
|
-
|
B
|
B
|
是
|
|
高分辨
|
-
|
G
|
G
|
B
|
B
|
B
|
是
|
|
高温应用/加热台
|
-
|
-
|
-
|
G
|
B
|
-
|
是
(A型)
|
|
低倍应用
|
G
|
B
|
B
|
G
|
G
|
B
|
否
|
|
生物颗粒悬液
|
-
|
G
|
B
|
B
|
B
|
B
|
是
|
|
非生物颗粒悬液
|
-
|
G
|
B
|
B
|
B
|
B
|
是
|
|
干粉末
|
-
|
G
|
B
|
G
|
G
|
B
|
否
|
|
复型与低温应用
|
G
|
B
|
-
|
-
|
G
|
B
|
是
(Type-A)
|
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薄片
|
G
|
B
|
G
|
B
|
G
|
B
|
是
|
|
病毒悬液
|
-
|
G
|
G
|
B
|
B
|
B
|
是
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Quantifoil支持膜
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Quantifoil支持膜网孔精密排列，孔径、间距已知，可用于估计观察颗粒的尺寸，还可首次应用于自动化电镜观察。Quantifoil碳支持膜孔表面积大，常用于减少样本厚度，降低支持膜干扰造成的失真。多孔膜可用于支撑超薄碳膜或直接作为较大样品的载体（如微米级粉末）。这在电子衍射（ED）、电子能量损失谱（EELS）成像和暗场成像中非常重要。这种膜还可应用于物质纳米特性研究，如生物大分子复合体在载体自由悬层的研究。新制碳膜一般具有较好的亲水性。应用范围包括：
1. 低温电子层析成像重建
2. 自动影像采集
3. 小剂量电子显微观察
4. 低能电子点源（LEEPS）显微观察
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产品编号
|
描述
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单位
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656
|
Quantifoil支持膜， 7µm方孔，肋宽2µm， 200M 铜网
|
个
|
|
656-200-CU
|
Quantifoil支持膜， 7µm方孔，肋宽2µm， 200M 铜网
|
10个/包
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|
656-200-AU
|
Quantifoil支持膜， 7µm方孔，肋宽2µm， 200M 金网
|
10个/包
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|
656-200-NI
|
Quantifoil支持膜， 7µm方孔，肋宽2µm， 200M 镍网
|
10个/包
|
|
656-300-CU
|
Quantifoil支持膜， 7µm方孔，肋宽2µm， 300M 铜网
|
10个/包
|
|
656-300-AU
|
Quantifoil支持膜， 7µm方孔，肋宽2µm， 300M 金网
|
10个/包
|
|
656-300-NI
|
Quantifoil支持膜， 7µm方孔，肋宽2µm， 300M 镍网
|
10个/包
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|
产品编号
|
描述
|
单位
|
|
657
|
正交阵列，2µm孔 - 2µm间隔， 200M 铜网
|
个
|
|
657-200-CU
|
正交阵列，2µm孔 - 2µm间隔， 200M 铜网
|
10个/包
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|
657-200-AU
|
正交阵列，2µm孔 - 2µm间隔， 200M 金网
|
10个/包
|
|
657-200-NI
|
正交阵列，2µm孔 - 2µm间隔， 200M 镍网
|
10个/包
|
|
657-300-CU
|
正交阵列，2µm孔 - 2µm间隔， 300M 铜网
|
10个/包
|
|
657-300-AU
|
正交阵列，2µm孔 - 2µm间隔， 300M 金网
|
10个/包
|
|
657-300-NI
|
正交阵列，2µm孔 - 2µm间隔， 300M 镍网
|
10个/包
|
|
产品编号
|
描述
|
单位
|
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658-200-CU
|
正交阵列，1.2µm孔 - 1.3µm间隔， 200M 铜网
|
10个/包
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|
658-200-AU
|
正交阵列，1.2µm孔 - 1.3µm间隔， 200M 金网
|
10个/包
|
|
658-200-NI
|
正交阵列，1.2µm孔 - 1.3µm间隔， 200M 镍网
|
10个/包
|
|
658-300-CU
|
正交阵列，1.2µm孔 - 1.3µm间隔， 300M 铜网
|
10个/包
|
|
658-300-AU
|
正交阵列，1.2µm孔 - 1.3µm间隔， 300M 金网
|
10个/包
|
|
658-300-NI
|
正交阵列，1.2µm孔 - 1.3µm间隔， 300M 镍网
|
10个/包
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PELCO® 二氧化硅支持膜
PELCO®二氧化硅膜为真正的下一代产品，具有优越的平整性，优于同类产品10倍。膜厚分为40nm、18nm和8nm。该二氧化硅膜由圆形硅片（3mm左右）中窗格（0.5 x 0.5mm）上的200nm氮化硅膜所制。每个窗格上有24格SiO2膜，边界部分为Si3N4膜(200nm)的应用留出了充足区域。
热二氧化硅（Thermal Silicon Dioxide）是分析化学中表面功能最广的材料，可用作基体材料和生物体研究的载体。既可用作TEM成像的物理载膜，又可在实验中作为一种活性剂。二氧化硅支持膜具有优良的物理、化学和稳定性能。通过镀膜可改变或提高性能，或可通过直接沉积二氧化硅膜研究性能。8nm薄二氧化硅膜具有较好的弹性，可用FIB制作用户所需的各种网孔。
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应用实例包括：
- 纳米材料沉积与生长
- 薄膜分析与表征
- 催化剂研究与开发
- FIB薄片支持膜
- 半导体材料表征
- 附着生物分子研究
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产品规格：
- 膜厚度：40nm、18nm、8nm.
- 孔大小/ 数量： 50 x 50µm/24（40nm）， 60 x 60µm/24（18nm），70 x 70µm/24（8nm）
- 支持膜样式： 5行 x 5 列；200nm Si3N4 载网； 肋宽35µm ，边缘处55µm （40nm）；肋宽35µm，边缘处30µm（18nm）；肋宽 25µm，边缘处25µm （8nm）
- 窗格面积：0.5 x 0.5mm
- 窗格厚度： 200µm
- 表面粗糙度： 平均41nm
- 窗格直径： 标准3mm TEM圆片
- 包装： 10个/包
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产品编号
|
描述
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单位
|
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21532-10
|
二氧化硅支持膜， 8nm， 70 x 70µm孔 (24) on 0.5 x 0.5mm 窗， Ø3mm
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10个/包
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21531-10
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二氧化硅支持膜， 18nm， 60 x 60µm孔 (24) on 0.5 x 0.5mm 窗， Ø3mm
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10个/包
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|
21530-10
|
二氧化硅支持膜， 40nm， 50 x 50µm孔 (24) on 0.5 x 0.5mm 窗， Ø3mm
|
10个/包
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LUXFilm™ TEM大面积支持膜支持膜
LUXFilm™ TEM Supports
LUXFilm™ TEM支持膜面积大，电子穿透性强。无遮挡区域直径最大可至2mm，仅含数条肋的开放区仍可达0.3至0.5mm。具有出色的电子束稳定性，且耐低温。 研究者可通过观察样本整体而提高工作效率。其对大结构成像、追踪特征，搜索细节与X线断层摄影术非常重要。
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在高要求与日常的TEM成像（80-300kV）中的应用包括：
· 大切片
· X线断层摄影术
· 厚材料
· 病理学研究
· 免疫细胞化学
· 颗粒计数、扫描
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产品编号
|
描述
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单位
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12810-CU
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Ø1.5mm，开放型（open area），铜网， 50nm膜厚
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10个/包
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|
12812-CU
|
Ø2.0mm，开放型（open area），铜网， 50nm膜厚
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10个/包
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|
12814-CU
|
2x1mm，开放型（open area），铜网， 50nm膜厚
|
10个/包
|
|
12810-NI
|
Ø1.5mm，开放型（open area），镍网， 50nm膜厚
|
10个/包
|
|
12812-NI
|
Ø2.0mm，开放型（open area），镍网， 50nm膜厚
|
10个/包
|
|
12814-NI
|
2x1mm，开放型（open area），镍网， 50nm膜厚
|
10个/包
|
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12821-CU
|
0.5mm，六角型（hex），铜网， 50nm膜厚
|
10个/包
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12823-CU
|
0.35mm，网孔型（mesh），铜网， 50nm膜厚
|
10个/包
|
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12825-CU
|
0.3mm，条型（bar），铜网， 50nm膜厚
|
10个/包
|
|
12821-NI
|
0.5mm，六角型（hex），镍网， 50nm膜厚
|
10个/包
|
|
12823-NI
|
0.35mm，网孔型（mesh），镍网， 50nm膜厚
|
10个/包
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12825-NI
|
0.3mm，条型（bar），镍网， 50nm膜厚
|
10个/包
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12830-CU
|
Ø1.5mm，开放型（open area），铜网， 30nm膜厚
|
10个/包
|
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12832-CU
|
Ø2.0mm，开放型（open area），铜网， 30nm膜厚
|
10个/包
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12834-CU
|
2x1mm，开放型（open area），铜网， 30nm膜厚
|
10个/包
|
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12830-NI
|
Ø1.5mm，开放型（open area），镍网， 30nm膜厚
|
10个/包
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12832-NI
|
Ø2.0mm，开放型（open area），镍网， 30nm膜厚
|
10个/包
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12834-NI
|
2x1mm，开放型（open area），镍网， 30nm膜厚
|
10个/包
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12841-CU
|
0.5mm，六角型（hex），铜网， 30nm膜厚
|
10个/包
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12843-CU
|
0.35mm，网孔型（mesh），铜网， 30nm膜厚
|
10个/包
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12845-CU
|
0.3mm，条型（bar），铜网， 30nm膜厚
|
10个/包
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12841-NI
|
0.5mm，六角型（hex），镍网，30nm膜厚
|
10个/包
|
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12843-NI
|
0.35mm，网孔型（mesh），镍网， 30nm膜厚
|
10个/包
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12845-NI
|
0.3mm，条型（bar），镍网， 30nm膜厚
|
10个/包
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Substratek™ TEM金属支持膜
Substratek™ TEM Metallic Substrates
Substratek™为超薄金属支持膜，采用了专利技术生产，其对电子透明，因此可用于TEM。超薄支持膜可用于电化学处理、晶体生长及在支持膜上进行纳米或微米加工，因此无须另外制样就可用TEM观察，节省了时间，避免了人工假象及对昂贵减薄工具的依赖。与广泛使用的碳支持膜相比，金属支持膜因具高的表面能而更适合加工过程。
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超薄Substratek™金属支持膜的重要性能包括：
- 2-3nm厚，对电子透明
- 形体尺寸小，不会干扰样品特征
- 化学稳定性 (可用于电镀)
- 强度高
- 高表面能
应用包括：
- 纳米加工
- 电子束平版印刷术
- 微触印刷
- 电化学或电镀
- 纳米晶生长
- 碳纳米管
- 含碳材料的X射线分析
表面与界面科学
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金属支持膜位于标准3mm300目和400目TEM载网上。支持膜种类有金、铂、钯（2-3nm厚）、氧化钛（TiOx，10-20nm厚）。金、铂、钯膜以电化学类方式沉积于TEM金网上；TiOx膜则沉积于铜网上；这些材料被证实在载膜上具有小的形体尺寸。TiOx膜具有更好的生物相容性，可用于生命科学。
400目载网上的支持膜
G400： 间距62µm； 孔宽37µm； 肋宽25µm； 透过率37%
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产品编号
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描述
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单位
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21410-10
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Substratek™， 2-3nm铂膜于400目金网上
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10个/包
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21410-25
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Substratek™， 2-3nm铂膜于400目金网上
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25个/包
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21420-10
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Substratek™， 2-3nm金膜于400目金网上
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10个/包
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21420-25
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Substratek™， 2-3nm金膜于400目金网上
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25个/包
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21430-10
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Substratek™， 2-3nm 钯膜于400目金网上
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10个/包
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21430-25
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Substratek™， 2-3nm 钯膜于400目金网上
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25个/包
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21440-10
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Substratek™， 10-20nm TiOx膜于400目铜网
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10个/包
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21440-25
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Substratek™， 10-20nm TiOx膜于400目铜网
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25个/包
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300目载网上的支持膜
G300： 间距83µm； 孔宽58µm； 肋宽25µm； 透过率49%
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产品编号
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描述
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单位
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21310-10
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Substratek™， 2-3nm铂膜于300目金网上
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10个/包
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21310-25
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Substratek™， 2-3nm铂膜于300目金网上
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25个/包
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21320-10
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Substratek™， 2-3nm金膜于300目金网上
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10个/包
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21320-25
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Substratek™， 2-3nm金膜于300目金网上
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25个/包
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21330-10
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Substratek™， 2-3nm Pd于300目金网上
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10个/包
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21330-25
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Substratek™， 2-3nm Pd于300目金网上
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25个/包
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21340-10
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Substratek™， 10-20nm TiOx膜于300目铜网
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10个/包
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21340-25
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Substratek™， 10-20nm TiOx膜于300目铜网
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25个/包
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金、铂、钯、氧化钛（TiOx）膜支持膜相关知识
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铂支持膜
铂，尽管为第三行过渡金属，粒径小，薄膜对电子透明而仍具良好的导电性。铂支持膜强度高，非常适合催化剂研究。
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钯支持膜
钯是铂的出色替代品。形体尺寸小，电子透明性更佳，但导电性差。钯由于成本较低，在集成电路方面，正被研究用作金的替代品。其它的研究领域包括催化剂研究和储氢研究。
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氧化钛 (TiOx) 膜
10-20nm厚，粒度极小。氧化钛为生物相容材料，可融入活组织中。在晶体生长、其它材料与TiOx膜相互作用方面，氧化钛膜是一种性能极其优越的支持膜。
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PELCO® 氮化硅支持膜
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Tomography型SiN支持膜
铁纳米颗粒被分散在SiN支持膜上，并于350°C氧化。图像显示了氧化后的产物：中空氧化钛纳米颗粒。
Haitao Liu， Dept. of Chemistry， UC Berkeley， California.
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蒙特卡罗模拟显示50nm 氮化硅支持膜具有吸收更少，散射更低。PELCO® 50nm支持膜成像、分析性能超卓。
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PELCO® 氮化硅支持膜采用最精准的半导体和MEMS 制造技术生产，其优势在于：
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- 15或50nm 氮化硅支持膜弹性好、张力小
- 强度高，可直接进行材料沉积和样品操纵
- 50nm膜厚具有最大的观察区
- 15nm膜厚的支持膜，无孔，用于超高分辨应用
- 200nm厚氮化硅支持膜强度高，张力小
- 特殊窗格，用于TEM Tomography应用
- 0.5x1.5mm大窗设计主要用于高倾斜（可至75°）tomography应用
- 多窗型
- 2个独立的0.1 x 1.5mm窗格
- 3x3 阵列（含9个 0.1 x 0.1mm窗格）
- 多重显微分析能力
- 氮化硅支持膜的机械稳定性可使其同时进行TEM、SEM、EDX、XPS、AFM等多种分析
- 支持膜耐溶剂、酸及碱
- 适合高温实验
- 可承受800° C以上高温。
- 对含碳样品提供更准确的分析，并减少污染发生
- 支持膜清洁容易
- 物理、化学性能稳定，使用辉光放电或离子清洗技术可容易地清洁支持膜
- 超平整背景
- 适合沉积纳米颗粒与薄膜
- 因无背景结构，非常适合SEM成像
- 洁净生产过程，避免支持膜上出现污染颗粒
- 边缘完整不断裂，不含污染物，在100级（US Fed Standard 209E）清洁环境下包装
- 窗格厚度 200µm 和50µm
- 200µm ，适合标准载网样品架
- 50µm，适合特殊载网样品架
- 工业标准3mm直接圆片
- 适合标准TEM样品架，提供边缘可处理的EasyGrip™，亦提供强度更高的硅片
- 相同批次支持膜性能相同
- 适合系列样品间的比较
- 提供亲水性/憎水性改性表面与多孔膜
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应用领域：
- 细胞生物学
- 悬浮液、气溶胶、纳米颗粒分析
- 自组装单层
- 聚合物研究
- 薄膜研究
- 材料科学
- 半导体装置纳米结构性能
- 半导体：薄膜表征
- 催化剂开发
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(a) (b) Single slice electron tomogram of a single synapse in (a) where synaptic vesicles and microtubules can be clearly discerned. (c) Three-dimensional model of the tomographic data in (b) created by the use of the IMOD suite of programs. Prof. M. Stowell， et. al.， MCDB， CU-Boulder， Color ado.
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产品编号
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描述
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单位
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15nm膜厚/ 200µm窗格厚度
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21560-10
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氮化硅支持膜， 15nm厚，0.25x0.25mm窗格
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10个/包
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21568-10
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氮化硅支持膜， 15nm厚，2个0.1x1.5mm窗格
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10个/包
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21569-10
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氮化硅支持膜， 15nm厚，9 个0.1x0.1mm窗格
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10个/包
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50nm膜厚 / 200µm窗格厚度
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21505-10
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氮化硅支持膜， 50nm厚，0.25x0.25mm窗格
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10个/包
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21505-100
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氮化硅支持膜， 50nm厚，0.25x0.25mm窗格
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100个/包
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21500-10
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氮化硅支持膜， 50nm厚，0.5x0.5mm窗格
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10个/包
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21500-100
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氮化硅支持膜， 50nm厚，0.5x0.5mm窗格
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100个/包
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21501-10
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氮化硅支持膜， 50nm厚，0.75x0.75mm窗格
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10个/包
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21501-100
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氮化硅支持膜， 50nm厚，0.75x0.75mm窗格
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100个/包
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21502-10
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氮化硅支持膜， 50nm厚，1.0x1.0mm窗格
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10个/包
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21502-100
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氮化硅支持膜， 50nm厚，1.0x1.0mm窗格
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100个/包
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21504-10
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氮化硅支持膜， 50nm厚，0.5x1.5mm窗格
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10个/包
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21504-100
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氮化硅支持膜， 50nm厚，0.5x1.5mm窗格
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100个/包
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21508-10
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氮化硅支持膜， 50nm厚，2个0.1x1.5mm窗格
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10个/包
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21509-10
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氮化硅支持膜， 50nm厚，9个0.1x0.1mm窗格
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10个/包
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21525-10
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氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.25x0.25mm窗格
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10个/包
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21525-100
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氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.25x0.25mm窗格
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100个/包
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21520-10
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氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.5x0.5mm窗格
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10个/包
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21520-100
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氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.5x0.5mm窗格
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100个/包
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21521-10
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氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.75x0.75mm窗格
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10个/包
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21521-100
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氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.75x0.75mm窗格
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100个/包
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21522-10
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氮化硅支持膜， 200nm厚， 1.0x1.0mm窗格
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10个/包
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21522-100
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氮化硅支持膜， 200nm厚， 1.0x1.0mm窗格
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100个/包
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21524-10
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氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.5x1.5mm窗格
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10个/包
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21524-100
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氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.5x1.5mm窗格
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100个/包
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50nm膜厚 / 50µm窗格厚度
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21570-10
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氮化硅支持膜， 50nm厚，0.25x0.25mm窗格，窗格厚度50µm
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10个/包
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21578-10
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氮化硅支持膜， 50nm厚，2 个0.1x1.5mm窗格，窗格厚度50µm
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10个/包
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21579-10
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氮化硅支持膜， 50nm厚，9 个0.1x0.1mm窗格
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10个/包
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氮化硅支持膜混合装
The Silicon Nitride Assortment Pack
15nmSi3N4支持膜，窗格0.25x0.25mm，1个
15nmSi3N4支持膜，9个0.1x0.1mm窗格，1个
50nmSi3N4支持膜，0.25x0.25mm窗格，1个
50nmSi3N4支持膜， 9个0.1x0.1mm窗格，1个
50nmSi3N4支持膜， 0.5x0.5mm窗格，1个
50nmSi3N4支持膜0.75x0.75mm窗格，1个
200nmSi3N4支持膜， 0.25x0.25mm窗格，1个
50nmSi3N4支持膜0.5x0.5mm窗格，1个
40nm SiO2支持膜， 0.5x0.5mm窗格，1个
200nm多孔Si3N4支持膜，2.5um孔， 0.5x0.5mm窗格，1个
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产品编号
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描述
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单位
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21597-10
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氮化硅支持膜混合装 (型号不同的支持膜10个)
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包
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PELCO®亲水性/憎水性氮化硅支持膜
PELCO® Hydrophilic and Hydrophobic Silicon Nitride Membrane Surfaces
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通过原子层沉积技术（ALD）使氮化硅支持膜的表面性质发生了改变。亲水性/憎水性支持膜具有以下优势：
- 在低、高表面能之间选择
- 支持膜平整保形
- 改善润湿性与生物相容性（亲水性）
- 在细胞生长之前表面不必作等离子体处理
- 憎水性镀层为纳米材料的沉积与生长提供新型的平台
憎水性表面提高了溶于或悬浮于有机溶剂材料的制样效果；有机溶剂中的纳米粒子（如碳纳米管）易分散于氮化硅支持膜上。
亲水性表面使水溶液在支持膜上的润湿性和分散性得到改善，避免了使用亲水性较差支持膜时常出现的颗粒团聚现象，尤其适用于水溶液与生命科学研究。
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产品编号
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描述
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单位
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21550-10
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PELCO®亲水性氮化硅支持膜，50nm厚， 0.5x0.5mm窗格
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10个/包
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21551-10
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PELCO®亲水性氮化硅支持膜，200nm厚， 0.5x0.5mm窗格
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10个/包
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21553-10
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PELCO®亲水性氮化硅支持膜，15nm厚， 9个0.1x0.1mm窗格
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10个/包
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21552-10
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PELCO®憎水性氮化硅支持膜，50nm厚， 0.5x0.5mm窗格
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10个/包
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21591-10
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PELCO®憎水性氮化硅支持膜，200nm厚， 0.5x0.5mm窗格
|
10个/包
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21593-10
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PELCO®憎水性氮化硅支持膜，15nm厚， 9个0.1x0.1mm窗格
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10个/包
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21597-10
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氮化硅支持膜混合装 (型号不同的支持膜10个)
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包
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